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TFT 生产技术***为核心的部分是光刻工艺，它既是决定产品品质的重要环节，也是影响产品成本的关键部分。而在光刻工艺中，***受人们关注的就是掩模版，其质量在很大程度上决定了TFT- LCD 的品质，而其使用数量的减少可有效削减设备***、缩短生产周期。随着 TFT 结构的变化和生产工艺的改进，其制造过程中使用掩模版的数量也在相应地减少。由此可见，TFT 生产工艺从早期的 8掩模版或 7掩模版光刻工艺发展到目前普遍采用的5掩模版或 4掩模版光刻工艺，大大地缩减了 TFT- LCD 生产周期和生产成本。

LCD制造时选用的控制IC、滤光片和定向膜等配件，与面板的对比度有关，对一般用户而言，对比度能够达到350：1就足够了，但在***领域这样的对比度并不能满足用户的需求。相对CRT显示器轻易达到500：1甚至更高的对比度而言，只有高i档液晶显示器才能达到如此程度。市场上三星、华硕、LG等一线品牌如今的LCD显示器均可以达到1000：1对比度这一级别，但是由于对比度很难通过仪器准确测量，所以挑的时候还是要自己亲自去看才行。

LCD的可视角度是一个让人头疼的问题，当背光源通过偏极片、液晶和取向层之后，输出的光线便具有了方向性。也就是说大多数光都是从屏幕中垂直射出来的，所以从某一个较大的角度观看液晶显示器时，便不能看到原本的颜色，甚至只能看到全白或全黑。为了解决这个问题，制造厂商们也着手开发广角技术，到目前为止有三种比较流行的技术，分别是：TN+FILM、IPS(IN-PLANE -SWITCHING)和MVA(MULTI-DOMAIN VERTICAL alignMENT)。